Einführung

Kupfer (II) Oxatronic ist eine fortgeschrittene Kupferverbindung, die für seine außergewöhnliche Reinheit bekannt ist und typischerweise 99,999%übertrifft. Dieses hohe - Reinheitsmaterial wird in verschiedenen Hochschulen und wissenschaftlichen Forschungsbemühungen eingesetzt. Seine unterschiedlichen Eigenschaften machen es zu einer unverzichtbaren Komponente bei der Herstellung von Halbleitern, Sensoren und fortschrittlichen Keramik.

Eigenschaften von Kupfer (II) Oxid Puratronic

Kupfer (II) Oxatronic weist mehrere wichtige physikalische und chemische Eigenschaften auf, die den Nutzen bei anspruchsvollen industriellen Anwendungen unterstreichen:

• Chemische Formel: Cuo
• Molekulargewicht: 79,54 g/mol
• Reinheit:> 99,999%
• Dichte: 6,315 g/cm3
• Schmelzpunkt: 1,326 ° C (1.619 K)
• Löslichkeit: unlöslich im Wasser

Anwendungen von Kupfer (II) Oxid Puratronic

Die Anwendungen von Kupfer (II) Oxid Puratronic sind breit, die durch sein hohes Maß an Reinheit und Stabilität angetrieben werden:

1. Halbleiter

Kupfer (II) Oxatronic ist integraler Bestandteil der Herstellung von Halbleitergeräten. Es dient als Halbleiter vom Typ P - mit einer schmalen Bandlücke von ca. 1,2 eV, die für photokondektrische Anwendungen geeignet ist.

2. Katalysatoren

In der chemischen Industrie wird Kupfer (II) Oxid als Katalysator bei Prozessen wie der Synthese von Methanol und verschiedenen organischen Transformationen verwendet, was eine verbesserte Effizienz bietet.

3. Solarzellen

Dieses Material wird zur Verwendung in Solarzellen untersucht, insbesondere bei der Gestaltung kostengünstiger und effizienter Photovoltaik -Geräte aufgrund seiner geeigneten elektronischen Eigenschaften.

4. Antibakterielle Wirkstoffe

Kupfer (ii) Oxid weist starke antibakterielle Eigenschaften auf und wird in Beschichtungen und anderen Anwendungen verwendet, um das Wachstum pathogener Mikroorganismen zu hemmen.

Hongyuan New Materials Company Lösungen

Das Hongyuan New Materials Company bietet eine Reihe innovativer Lösungen, die auf die Optimierung der Verwendung von Kupfer (II) Oxid -Puratronic in verschiedenen industriellen Anwendungen zugeschnitten sind. Ihre Angebote umfassen:

• Customisierte Partikelgrößenverteilung für eine verstärkte Reaktivität.
• Oberflächenbehandlungstechnologien zur Verbesserung der Materialkompatibilität mit verschiedenen Substraten.
• Hoch - Durchsatz -Screening -Methoden für die schnelle Anwendungsentwicklung.
• Technische Unterstützungsdienste zur Unterstützung der Integration von Kupfer (II) Oxid in Herstellungsprozesse.

Referenzen

1. Standardmaterialspezifikationen für Kupfer (II) Oxid, American Society für Tests und Materialien (ASTM).
2. Zhou, Y. & Smith, J. (2020). Anwendungen von Metalloxiden in der Elektronik. Journal of Material Science, 55 (14), 6780 - 6795.
3. Hongyuan New Materials Company Broschüre, 2023 Ausgabe.
4. Industrielle Anwendungen von hohen Kupferverbindungen mit Reinheit. Advanced Materials Review, 12 (3), 120 - 135.